上海交大物理与天文学院共享实验室 引入 VPI高真空磁控溅射设备

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仪器介绍

SD-650MH磁控溅射镀膜仪具有真空度高、操作便捷等优点。仪器主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转样品台、工作气路、抽气系统、真空测量及电控系统等部分组成。仪器配备直流电源和射频电源，可用于金属、半导体、绝缘体等多种薄膜材料的制备和研究。

这款高真空磁控溅射镀膜设备体积小巧、操作便捷，却能够实现超高真空（真空度可达5×10^-5 Pa），并支持金属、半导体、绝缘体等多种材料的磁控溅射沉积，可制备各类功能薄膜。作为科研共享平台的一部分，它为研究人员提供了基础而关键的薄膜制备手段，助力诸多前沿实验的开展。有了这台设备，研究人员无需将样品制备任务外包，在校内即可完成高质量薄膜的沉积，从而加快了实验进程。

高校建立共享实验室具有重要意义。以上海交大物理与天文学院的微纳加工与测试平台为例，该平台整合了多种高精尖仪器，面向校内外开放，为科研人员提供便利的实验条件和技术支持。通过统一的管理和专业培训机制，学生也能亲手操作这些尖端设备，在实践中提升科研技能和创新能力。共享模式提高了仪器的利用率，促进了不同课题组之间的交流合作，有助于催生更多创新成果。

性能指标

• 极限真空度：5*10^-5 Pa

• 腔体尺寸：260 mm（直径)*280 mm（高）

• 溅射靶头：50 mm（直径）

• 冷却方式：风冷（泵）+ 水冷（溅射靶）

• 真空计：电阻规、电离规

• 直流电源：0-300 W可调

• 射频电源：0-300 W可调

典型应用

• 该设备可用于制备多种电学、光学薄膜。由于磁控溅射工艺不需要热熔，故可用于沉积无法蒸发镀膜的高熔点材料。

• 当前可供使用的靶材有Cu、Au、Ni、Pt、C和Fe₃O₄，如需其它材料请和平台联系。

样品要求

• 直径/边长小于120 mm