VPI近期完成了一套高真空磁控溅射镀膜系统的交付与应用培训，该设备采用单靶双电源配置并集成膜厚监测系统，应用于半导体电容电极薄膜制备。针对电极薄膜在致密性、均匀性及膜厚精度方面的关键需求，VPI通过稳定的高真空环境与精准的溅射控制，实现了高一致性的薄膜沉积效果。

此次项目体现了VPI在高真空镀膜设备与半导体应用领域的工程化交付能力，也展示了公司在薄膜工艺支持与长期应用服务方面的综合实力。未来，VPI将持续优化设备性能与系统集成能力，为科研与产业客户提供更加稳定、可靠的薄膜制备解决方案。