高真空磁控溅射中DC与RF电源最大功率“限制”及 应用案例
在磁控溅射工艺中，电源是“能量心脏”。常见有直流（DC）、脉冲直流（Pulsed DC）、射频（RF，13.56 MHz）。DC常用于金属靶，功率范围宽，速率高；RF能稳定溅射绝缘体（如氧化物），但功率一般较低；Pulsed DC则介于两者之间，用于减少电弧，常见于反应溅射；中频双极（MF AC）和高功率脉冲（HiPIMS）则多见于大面积或高性能膜层。不同电源类型的选择，正是由材料特性和工艺目标决定的。
额定功率与实际功率
设备手册上常标注“DC 1000 W”或“RF 300 W”，这只是电源能提供的最大额定值。但实际能否长期使用，取决于靶材面积、冷却效果和材料特性。通常实际功率比额定值低 20%–50%。换句话说，电源的上限并不等于靶材可承受的极限。实验中常见，当功率接近设计上限的 70–80% 时，靶材背板温度就会迅速上升，预示已逼近安全边界。
功率密度与溅射稳定性
与总功率相比，功率密度（W/cm²）更能体现溅射的“压力”。靶面并非均匀受能，磁控管会在靶面形成环形“跑道”，能量集中在此狭窄区域，使局部温度远高于平均值。若功率密度过高，常见后果是靶面开裂、熔化、电压不稳甚至弧光放电。工程上常强调：宁可牺牲部分速率，也要保证功率密度在安全范围内。
靶材类型与功率承受能力
不同材料差异巨大。导热性强的金属（如铜、铝）可承受 10–20 W/cm²；中等导热金属或半导体（钛、硅）约 5–10 W/cm²；导电氧化物（ITO、AZO）一般 2–5 W/cm²；绝缘陶瓷（氧化铝、钛酸钡）仅 2–3 W/cm²；而低熔点金属（铟、锡）更需严格限制在 2 W/cm² 以下。规律很清楚：导热性越好，承受能力越强；熔点越低或脆性越大，限制越严。
靶材尺寸与总功率
功率密度一定时，靶面积越大，总功率上限就越高。2 英寸靶材常在数百瓦范围；4 英寸靶则可达千瓦级。工业中更大靶材甚至能承受数千瓦。但尺寸放大带来冷却难度，中心散热不如边缘，因此总功率虽增加，但功率密度控制依旧关键。
键合与冷却的约束
靶材如何安装与冷却，直接影响可用功率：
