VPI真空镀膜技术 应用案例白皮书
来源:VPI知识库
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作者:VPI_LXJ
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发布时间: 2025-04-09
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VPI是专注材料科学样品制备和真空镀膜系统的高科技企业,为全球多家高校、科研机构和企业提供真空镀膜设备与解决方案。某高校科研团队需在特殊基底上制备微米级厚度的某导电性极好的贵金属纯薄膜,但面临附着力不足、膜层氧化变色和厚度不均匀三大难题。VPI团队制定专项技术攻关计划,提出定制化解决方案,包括升级靶材尺寸与功率密度、采用旋转柱状样品台、优化工艺参数防氧化等。经理论计算与实验验证,该方案有效解决问题。技术分析表明,方案基于溅射工艺理论和实践经验,从多环节优化。实施后科研团队获高质量厚膜,膜层质量、附着力和稳定性提升,性能满足应用需求,客户满意度高,巩固了双方合作。此案例展示了VPI在高难度薄膜制备任务中的实力和服务水准,其产品体系完善,能满足不同需求。
“以客户需求为起点,为客户创造价值”。
在真空镀膜领域,VPI已为全球众多高校和研究机构提供了上千台设备及技术支持,凭借专业团队和优质服务在行业内树立了良好口碑。本白皮书所述膜沉积案例只是VPI众多成功应用之一,类似的定制化方案还广泛应用于金、铂、氧化物等各种材料的镀膜项目中。VPI的产品体系日臻完善,涵盖从实验室小型镀膜仪到大型高真空镀膜系统,既有SD-900M这类适用于常规镀膜和制样的经济型磁控溅射仪,也有SD-900直流溅射仪这样的高性能设备,以及蒸发镀膜、离子源辅助沉积等多功能解决方案,可全面满足不同行业和领域的技术需求。