碰幢次数的增加，电子的能量逐渐降低，在能量耗尽以后才落在阳极

2.3.2 磁控溅射源装置

平面型

矩形：应用广泛，尤其适用于大面积平板的连续型镀膜。镀膜均匀性，产品的一致性较好。

圆形:只适合于做小型的磁控源，制靶简单，适合科研中应用。

电磁铁

电流的磁效应：如果一条直的金属导线通过电流，那么在导线周围的空间将产生圆形磁场。导线中流过的电流越大，产生的磁场越强。

电流磁效应

圆柱形

适合镀覆尺寸变化大，形状复杂的工件。

圆柱形磁控溅射靶的结构

倒锥形靶材

靶材利用率高；枪体结构紧凑，体积较小

靶是圆锥形，不易制备

三、磁控溅射实例

3.1 磁控溅射镀膜

基本步骤：

抽真空  传样  通氩气  加磁场  加偏压  起辉  镀膜

程序控制

对于单层膜

“for=1；

tx=y； （tx表示第x个靶位的溅射时间，y设定的 溅射时间，以sec为单位）next； ”

对于多层膜（n×i层）

“for=n； （ n为循环次数,i为周期内层数）

tx1=y1；

tx2=y2；

…… ；

txi=yi ；

next;